Германската компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology официално въведе в експлоатация първата нова сграда в своя комплекс в Оберкохен. Това е част от най-мащабното увеличение на капацитета в историята на подразделението, като новите площи добавят около 25 000 квадратни метра за производство и свързани с него дейности.
Тази инвестиция е от стратегическо значение не само за самата компания, но и за ASML, тъй като Zeiss произвежда критично важните оптични системи за най-модерните литографски машини в света. Тя е практически незаменим доставчик при EUV литографията.
Благодарение на изключително прецизните огледала, осветителни модули и проекционни системи на Zeiss, върху силициевите пластини могат да бъдат създавани структури с размери под 10 нанометра. Тези системи работят със светлина с дължина на вълната от едва 13,5 нанометра, което ги прави сред най-сложните оптични разработки, създавани някога.
Без тези технологични постижения лидери като TSMC, Samsung и Intel не биха могли да произвеждат най-модерните процесори и чипове за изкуствен интелект, които задвижват съвременния технологичен прогрес.
Източник: it.dir.bg
